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散熱原理——底面處理工藝

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散熱原理——底面處理工藝
散熱底面與CPU之間會(huì)產(chǎn)生微小的空隙。為了減小之間的空隙,除了使用一定量導(dǎo)熱性能好的硅膠填充外,打磨平整的散熱器底面也是必不可少的步驟。平整的底面可以減少熱阻很大的散熱膏的使用量。常用的底面處理工藝包括:
拉絲工藝(研磨)
拉絲工藝也是使用最多的底面處理工藝。拉絲時(shí)使用某種表面具有一定粗糙程度及硬度的工具,常見的如砂紙、銼等,對(duì)物體處理表面進(jìn)行單向、反復(fù)或旋轉(zhuǎn)的摩擦,借助工具粗糙表面摩擦?xí)r的剪削效果去除處理表面的凸出物;當(dāng)然,磨平凸出物的同時(shí)也會(huì)在原本平整的表面上造成劃痕。故而應(yīng)采用由粗到細(xì)循序漸進(jìn)的過程,逐漸減小處理表面的粗糙程度。


拉絲工藝的特征是底面呈一條條平行的磨痕
盤銑工藝(切削)
盤銑工藝是指將散熱器底面固定之后通過高速旋轉(zhuǎn)的刀具切割散熱器表面,刀具始終在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn),因此切割出來的底面非常平整。與拉絲工藝相同,盤銑工藝使用的刀具越精細(xì),切割出的底面的平整程度越高。盤銑工藝的制造成本較高,但相對(duì)拉絲只需要兩三道工序,比較省時(shí),并且效果也比較理想。


盤銑工藝的特征是底部會(huì)留下弧形的磨痕
數(shù)控機(jī)床:
數(shù)控機(jī)床應(yīng)用于散熱片的底面平整處理主要采用的工藝仍然是銑。但與傳統(tǒng)盤銑不同,數(shù)控銑床的刀具可以通過單片機(jī)精確控制與散熱片間的相對(duì)距離。刀具接觸散熱片底面后,兩者水平方向相對(duì)運(yùn)動(dòng),即可對(duì)傳統(tǒng)盤銑中刀具空隙留下的未處理部分進(jìn)行切削,而達(dá)到完整的平面效果,不許任何后續(xù)處理即可獲得鏡面一般的效果,平整度可小于0.001mm。
拋光:拋光處理只是令處理表面更加光滑,對(duì)平面度沒有改善,處理成本較高。大多數(shù)風(fēng)冷散熱片不會(huì)進(jìn)行拋光處理,而較多見于相對(duì)水冷登高端的散熱器。

 

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